濺射設備
類(lèi)別: 應用示例
發(fā)布日期:2017年12月26日(星期二)
濺射是一種用帶電粒子轟擊靶材,加速的離子轟擊固體表面時(shí),發(fā)生表面原子碰撞并發(fā)生能量和動(dòng)量的轉移,使靶材原子從表面逸出并淀積在襯底材料上并形成一層膜。
與真空蒸鍍相比,可以形成致密性極好的高精度薄膜。
此外,此外,也可以使用蒸鍍中不能夠使用的高熔點(diǎn)材料,因此它們是目前超LSI和半導體領(lǐng)域不可或缺的材料。
磁流體也是平板顯示器、觸摸屏以及太陽(yáng)能電池等濺射鍍膜設備中的重要零件,我們公司向國內外鍍膜設備公司提供高品質(zhì)磁流體。
我們的磁流體可以對應各種類(lèi)型的鍍膜設備,歡迎來(lái)電或郵件咨詢(xún)。