物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition）是一種通過加熱或等離子能量將薄膜原料蒸發(fā)并使其在基板上形成薄膜的方法。PVD基本方法：①利用熱能使薄膜所需要的材料蒸發(fā)，并沉積到的基板表面；②分子束外延并且將蒸發(fā)的粒子變成離子的離子鍍膜；③用輝光放電等離子法進(jìn)行陶瓷薄膜濺等方法。