離子注入是一種通過(guò)將離子化物質(zhì)注入固體來(lái)改變固體性質(zhì)的一種加工方法。
在半導(dǎo)體制造的前端工藝中，通過(guò)使用離子注入，可以向晶片中引入適當(dāng)?shù)碾s質(zhì)以改善半導(dǎo)體元件特性。

廣泛用于控制半導(dǎo)體材料的電特性的工藝中，一般由產(chǎn)生的離子束的束量和能量，可以分為中等電流離子注入設(shè)備、大電流離子注入設(shè)備及高能量離子注入設(shè)備。